電鍍廠實(shí)結(jié)
實(shí)習(xí)人：品管部SQE余小軍
實(shí)習(xí)時(shí)間：2015.10.12-2015.10.12
實(shí)習(xí)地點(diǎn)：深圳金源康（寶裕華）實(shí)業(yè)公司
實(shí)習(xí)目的：學(xué)習(xí)ABS電鍍工藝流程、不良分析及改善，協(xié)助控制公司品管IQC電鍍品進(jìn)料質(zhì)量。
電鍍就是利用電解的方式使金屬或合金沉積在工件表面，以形成均勻、致密、結(jié)合力良好的金屬層過程。
一、 ABS塑料電鍍?cè)?/p>
塑料成型后經(jīng)過清洗、粗化、敏化、解膠等表面處理后，再進(jìn)行沉鎳、鍍銅、鍍鎳，最后在表面鍍一層致密抗氧化高強(qiáng)度鉻層，使塑料產(chǎn)品呈現(xiàn)金屬光澤，增強(qiáng)美感和使用壽命。
ABS塑料是塑料電鍍中應(yīng)用最廣的一種，ABS塑料是丙烯腈（A）、丁二烯（B）、苯乙烯的三元共聚物，丁二烯的含量對(duì)電鍍影響很大，一般應(yīng)控制在18-23%，丁二烯含量高流動(dòng)性好，易成型，與鍍層的結(jié)合的附著力好。由于ABS非2，所以電鍍前必須附上導(dǎo)電層，形成導(dǎo)電層要經(jīng)過粗化、中和、敏化、活化、化學(xué)鍍等幾個(gè)步驟。
鍍銅原理
同理鍍鎳鍍鉻的原理也如此，只是溶液成分和陽極板的組成不一樣而已。
二、 循環(huán)缸電鍍流程及工藝
流程部分
1、素材進(jìn)料檢驗(yàn)
電鍍前必須對(duì)ABS素材進(jìn)行進(jìn)料檢驗(yàn)，主要為外觀和性能兩方面。外觀檢驗(yàn)項(xiàng)目主要為：尺寸、飛邊、凹坑、油污、頂針印、氣跡氣紋、拉傷、麻點(diǎn)、、、性能檢測(cè)項(xiàng)目主要有：內(nèi)應(yīng)力測(cè)試、死膠等
2、除內(nèi)應(yīng)力
產(chǎn)品在65+/-5℃的條件下烘干3小時(shí)，除去產(chǎn)品成型過程的內(nèi)應(yīng)力。
3、 涂絕緣油
塑料產(chǎn)品電鍍前需要進(jìn)行絕緣處理，產(chǎn)品表面并非100%上鍍層，根據(jù)客戶要求某些部位不需要上鍍層，就要在這些位置做絕緣處理，涂上一層絕緣油，在化學(xué)鍍過程中對(duì)這些部位表面進(jìn)行保護(hù)。
4、電鍍
根據(jù)產(chǎn)品的大小和筋條框架結(jié)構(gòu)選擇合適的電鍍掛具，產(chǎn)品上掛后先進(jìn)行前處理
（1） 產(chǎn)品化學(xué)清洗除油 化學(xué)除油的原理為利用堿性溶液對(duì)油脂的皂化作用可除去皂化性油脂，利用表面活性劑的乳化作用除去非皂化性油脂。清洗缸液主要為去污粉、10-20g/L氫氧化鈉的水溶液，在打氣的作用下，產(chǎn)品在60-68℃溫度下，時(shí)間為1-5分鐘對(duì)表面脫模劑、指紋、蠟質(zhì)層等可見雜質(zhì)進(jìn)行清理。皂化反應(yīng)方程式是：
（C17H35COO）3C3H5+3NaOH=3C17H35COONa+C3H5（OH）3
（2） 親水浸泡
親水缸主要成分為稀硫酸（20-30ml/L）、親水劑（5ml/L），在30-40℃溫度下對(duì)產(chǎn)品清洗2-8分鐘，目的是使后續(xù)處理過程中溶液能充分接觸產(chǎn)品表面。
（3） 粗化處理
粗化缸液主要成分為濃硫酸（380-400g/L）和鉻酸酐（380-410g/L），在波美度50+/-2，68-70℃溫度下對(duì)產(chǎn)品清洗3-20分鐘（根據(jù)實(shí)際情況調(diào)整走機(jī)時(shí)間）。主要目的是與高分子有機(jī)物表面進(jìn)行反應(yīng)，在強(qiáng)氧化和強(qiáng)脫水的作用下，產(chǎn)品表面的小分子會(huì)發(fā)生降解脫水反應(yīng)，小分子脫落從而表面形成微孔結(jié)構(gòu)，起到增加產(chǎn)品表面粗糙程度，能提高鍍層與產(chǎn)品的附著力。第二個(gè)目的是腐蝕產(chǎn)品表面未能清洗掉的有機(jī)雜質(zhì)，第三個(gè)目的為增強(qiáng)塑料產(chǎn)品表面的親水能力。粗化程度的好壞直接影響到鍍層的.結(jié)合力、光亮度和完整性。
（4） 純水洗
清洗硫酸及鉻酸，防止雜質(zhì)離子帶到后續(xù)缸內(nèi)。
（5）酸化還原（中和活化）
缸液主要成分為稀鹽酸（PH值3-4）和焦亞硫酸鈉 2～5ｇ/Ｌ，目的為清洗還原粗過程中殘留的高價(jià)鉻離子，避免硫酸根離子和高價(jià)鉻離子污染后續(xù)缸液，保證活化液的使用壽命。
（6）純水洗
清洗清除中和過程中產(chǎn)品附帶的氯離子。
（7）預(yù)浸
預(yù)浸液（鹽酸150～200ｍｌ/Ｌ，ＢＰＰ 18～12ｍｌ/Ｌ）可對(duì)活化液起到一個(gè)緩沖作用,減少前面可能出現(xiàn)的有害物質(zhì)進(jìn)入活化槽,防止活化液中的鹽酸被稀釋以及膠體鈀直接和鍍件表面的中性水接觸而導(dǎo)致的破壞性水解。
（8）沉鈀
缸液主要成分為正二價(jià)錫離子（2-4g/L）、膠體鈀（2-5%）、稀鹽酸（150-200ml/L），膠體鈀活性極強(qiáng)，能活化塑料產(chǎn)品表面的分子，使化學(xué)鎳層能充分致密的吸附到塑料產(chǎn)品表面，為后面的化學(xué)鍍鎳提供催化中心———細(xì)微的鈀金屬小顆粒。先進(jìn)行預(yù)浸處理，預(yù)浸預(yù)浸作用是增加活化液的使用壽命,減少活化液的無謂損耗。在波美度為7+/-1，溫度20-30℃下對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行1-5分鐘的浸泡清洗處理。
（8）解膠
缸液主要成分為稀硫酸（25-35ml/L）和17N：（10-20g/L），解膠解膠可去除膠團(tuán)表面的兩價(jià)錫,使鈀暴露出來成為化學(xué)鍍鎳的催化活性點(diǎn)。吸附在塑料表面的膠體是以鈀為核心、外圍為二價(jià)錫的粒子團(tuán),而活化后道的清洗工序使二價(jià)錫水解成膠狀,把鈀嚴(yán)實(shí)地裹在里面,使鈀催化作用無法體現(xiàn)。通過45-55℃溫度，波美度5+/-2，1-5分鐘的浸泡清洗，能達(dá)到解膠目的。
（9）化學(xué)沉鎳
缸液主要成分為次氯化鎳、檸檬酸鈉、氨水和適量的有機(jī)酸組合絡(luò)合劑、促進(jìn)劑等�；瘜W(xué)鍍鎳可在鈀催化，ｐＨ值為8～10波美度6+/-2，溫度為25～45℃，5～8分鐘時(shí)間浸泡下,在塑料表面沉積一層導(dǎo)電鎳層。
（10）純水洗
純水清洗沉鎳過程中產(chǎn)品表面附帶的溶液。
（11）換線
將產(chǎn)品從前處理線轉(zhuǎn)移到電鍍處理線。
（12）酸化
用單缸稀硫酸對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行浸泡清洗1分鐘，為鍍銅作準(zhǔn)備。
（13）鍍焦銅
目的為在化學(xué)鎳層表面鍍上一層銅，增強(qiáng)導(dǎo)電性能，并對(duì)表面的損傷進(jìn)行修復(fù)。缸液主要成分為焦銅（CuP2O725-35g/L）、焦鉀（K4 P2O7180-280g/L）、各種光劑和修復(fù)劑。所有鍍種都必須鍍焦銅，具體作業(yè)為波美度20+/-2，PH值8.5-9，電壓1-4伏溫度45-55℃的條件下電鍍2-8分鐘。
（14）純水洗
純水清洗產(chǎn)品表面附帶的焦銅缸溶液。
（15）鍍酸銅
鍍焦銅后在產(chǎn)品銅層表面再鍍一層銅，主要是增加銅層的厚度、光亮性和導(dǎo)電性能。缸液成分主要為硫酸銅（190-220g/L）稀硫酸（60-70g/L），氯離子（氯化銅60-100PPM）。具體作業(yè)為波美度20+/-2，PH值3.8-4.2，電壓2.5-7.5伏溫度24-38℃的條件下對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行5-45分鐘的電鍍。
（16）純水洗
純水清洗產(chǎn)品表面附帶的酸銅溶液，避免銅離子帶到后續(xù)電鍍缸。
（17）酸化
對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行稀硫酸酸化預(yù)浸，為進(jìn)入鍍鎳缸作準(zhǔn)備。
（18）鍍鎳
在產(chǎn)品表面的銅層再鍍上一層鎳層，增強(qiáng)產(chǎn)品表面的金屬光澤。
半光鎳缸液主要成分為硫酸鎳（NiSO4:220-280g/L）、氯化鎳（NiCl2:50-60g/L）、 硼酸（H3BO3:35-45g/L）、光劑等。具體作業(yè)為波美度20+/-2，PH值3.8-4.2電壓2-6伏溫度55-60℃條件下對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行2-15分鐘電鍍處理。
光鎳缸主要成分為硫酸鎳（NiSO4:220-280g/L）、氯化鎳（NiCl2:50-60g/L）、硼酸（H3BO3:35-45g/L）、光劑。具體作業(yè)為波美度20±2，PH值 4.0-4.3，溫度55-60℃，電壓：2-9V條件下電鍍2-10分鐘。
鎳封缸液主要成分為硫酸鎳（NiSO4:220-280g/L）、氯化鎳（NiCl2:50-60g/L）和硼酸（H3BO3:45-55g/L）。具體作業(yè)為波美度20±2，PH值 3.8-4.2，電壓2.5-8V，溫度55-60℃下電鍍處理1-5 分鐘。
（19）純水洗
清洗鍍鎳過程中產(chǎn)品表面附帶的鎳缸溶液。
（20）酸活化
對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行稀硫酸酸化預(yù)浸，為進(jìn)入鉻鎳缸作準(zhǔn)備。
（21）鍍鉻
鍍鉻主要作用是在鎳層表面鍍上一層薄鉻，主要目的是增強(qiáng)電鍍層的強(qiáng)度。
三價(jià)鉻缸主要成分為三價(jià)鉻（Cr3+：22-30 g/L）、添加劑（400-430g/L）、穩(wěn)定劑（75-85ml/L）、調(diào)和劑（3-8ml/L）、修正劑（3-4ml/L）、硼酸（75-85g/L），具體操作為波美度24-28，溫度30-38℃，PH值2.3-2.9，電壓5-11V條件下電鍍處理120-300秒。
六價(jià)鉻缸主要成分為六價(jià)鉻（CrO3160-250g/L鉻酐）、硫酸（http://emrowgh.com），具體操作為波美度20±2，溫度30-4℃，PH值2.3-2.9，電壓3.8-7.0V條件下電鍍處理3-15分鐘。
（22）純水洗
（23）烘干處理
電鍍完畢后對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行烘干處理，在60+/-5℃的溫度下烘干30分鐘。
（24）電泳
為增加電鍍面的抗摩擦能力，對(duì)產(chǎn)品表面鍍層進(jìn)行電泳，形成一層致密的保護(hù)膜。
（25）烘干處理
（26）下掛檢查
下掛后對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行簡(jiǎn)單包裝，品管FQC根據(jù)客戶及公司內(nèi)部標(biāo)準(zhǔn)對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行100%全檢和包裝。
（27）OQC抽檢
根據(jù)抽樣計(jì)劃，OQC對(duì)FQC全檢的產(chǎn)品進(jìn)行抽檢。
（28）入庫(kù)出貨
ABS電鍍工藝部分
金源康（寶裕華）主要鍍種有光鉻、半光鉻、珍珠鉻、光鎳、珍珠鎳、堿槍色、酸槍色、淺槍色、24K金、18K金（注：帶*號(hào)為可選可不選工藝）
光鉻 半光鉻 珍珠鉻 光鎳 珍珠鎳 堿槍色 酸槍色 淺槍色 24K金 18K金 除油 除油 除油 除油 除油 除油 除油 除油 除油 除油 粗化 粗化 粗化 粗化 粗化 粗化 粗化 粗化 粗化 粗化
沉鈀 沉鈀 沉鈀 沉鈀 沉鈀 沉鈀 沉鈀 沉鈀 沉鈀 沉鈀
解膠 解膠 解膠 解膠 解膠 解膠 解膠 解膠 解膠 解膠 化學(xué)鎳 化學(xué)鎳 化學(xué)鎳 化學(xué)鎳 化學(xué)鎳 化學(xué)鎳 化學(xué)鎳 化學(xué)鎳 化學(xué)鎳 化學(xué)鎳 焦銅 焦銅 焦銅 焦銅 焦銅 焦銅 焦銅 焦銅 焦銅 焦銅
光銅光銅 光銅 光銅 光銅 光銅 光銅 光銅 光銅
半光鎳 半光鎳* 半光鎳* 半光鎳* 半光鎳* 半光鎳 半光鎳 半光鎳 * 半光鎳 半光鎳
光鎳 光鎳 光鎳* 光鎳 光鎳 光鎳 光鎳 光鎳 光鎳 光鎳
珍珠鎳珍珠鎳 珍珠鎳 珍珠鎳 珍珠鎳* 金金
光鉻 光鉻 光鉻 堿槍 酸槍
三、電鍍過程中的制程管控部分
1、除油
如產(chǎn)品有條痕或縫隙較深，應(yīng)提高含量和稍微提高打氣量。打氣大小按產(chǎn)品條痕或縫隙大小而定。
2、粗化
在這個(gè)環(huán)節(jié)里，操作員應(yīng)注意鉻酐一定要洗干凈，對(duì)于有孔的要?jiǎng)訋紫�，因�(yàn)榭桌镉锌諝猓绻只坏�，�?huì)造成漏鍍。（原理：把ABS里面的成份腐蝕成凹坑，以便于活化時(shí)Pa的填補(bǔ)。）
3、中和
中和的目的是去除CR03，防止CRO3污染后面的藥水，為了保持其潔凈度一個(gè)星期必須換一次，平時(shí)要常加原料。
4、活化
這個(gè)環(huán)節(jié)比較重要，如果活化劑較少，那Pa的填補(bǔ)凹坑的能力大大降低，從而造成化鎳速度減慢，會(huì)發(fā)生較多的漏鍍毛病。通常在鈀含量相同的情況下,塑料經(jīng)過處理的活化劑活性越高,下面化學(xué)鍍鎳越不容易產(chǎn)生漏鍍現(xiàn)象�；罨翰⒎瞧胀ㄈ芤�,而是膠體液。膠體鈀活化液活性的高低,并非取決于溶液中鈀含量的高低,而是取決于膠體顆粒的細(xì)度及數(shù)量的多少。一般而言,相同鈀含量的活化液,制備出的膠體顆粒越細(xì),膠體數(shù)量越多,則活化液體現(xiàn)出的活性越高。注意產(chǎn)品要洗水到位,嚴(yán)禁鉻水帶入.本產(chǎn)品在此缸停留時(shí)間不要太久（若有絕緣工件，在此缸不能停留太久）小心絕緣油層沉上。
5、解膠
作用：解除上工序的原子鈀為核心的膠團(tuán)，可去除膠團(tuán)表面的兩價(jià)錫,使鈀暴露出來成為化學(xué)鍍鎳的催化活性點(diǎn)。
重點(diǎn)管控：因產(chǎn)品帶水缸水容易被鉻水污染造成黑點(diǎn)漏鍍,要求洗水要干凈,發(fā)現(xiàn)缸水變?yōu)榍嗑G色時(shí),要及時(shí)更換。
6、化學(xué)鎳
作用：以自動(dòng)催化還原反應(yīng)在鈀活A(yù)BS/PC基本上使表面形成均勻化學(xué)沉鎳鍍層（一層導(dǎo)電膜）。
重點(diǎn)管控：嚴(yán)格標(biāo)準(zhǔn)范圍,失調(diào)時(shí)易造成缸水分解.原料添加必須過濾干凈,沉積速度在20秒左右,清缸周期為15天,次鈉為加速沉積速度,檸檬酸鈉和氯化銨性質(zhì)為緩沖，降低沉積速度，PH的高低也決定沉積的快慢當(dāng)PH降低時(shí)，以CP氨水調(diào)整。這一環(huán)節(jié)尤其重要，因?yàn)橹挥墟嚨某练e得好，才能保證后面電鍍的良好。 不能立刻打氣，因?yàn)榱⒖檀驓鈺?huì)把Pa沖掉，待沉一層鎳后，再開打氣。 次亞磷酸鈉作為還原劑一次不能添加太多，因?yàn)樘鄷?huì)造成鎳離子的過分被還原成鎳單質(zhì)，使藥水Ni2+的濃度大大降低。
7、預(yù)鍍焦銅
特點(diǎn)：為了防止鍍層燒點(diǎn),需進(jìn)行的小電流預(yù)鍍，可使鍍層具有高度的平滑與柔韌性。
重點(diǎn)管控：：要保持鍍液的純度,所添加的料須過濾干凈.50℃為最佳溫度.產(chǎn)品鍍后表層為紅色,稍亮.焦鉀含量低鍍層偏黑.本產(chǎn)品出缸后可選別是否有漏鍍或不導(dǎo)電。
8、鍍酸銅
特點(diǎn)：鍍液容易控制，鍍層填平度極佳，鍍層不易產(chǎn)生針孔，內(nèi)應(yīng)力底，延展性強(qiáng)，雜志容忍度高，鍍液壽命長(zhǎng)，電鍍表層清澈閃亮。
重點(diǎn)管控：電流大易燒焦.電流小鍍不亮有麻點(diǎn)。硫酸含量高易燒焦.含量少低位鍍不亮.氯離子高起沙有流紋.低時(shí)有針孔沙點(diǎn)添加硫酸銅必須過濾.
9、鍍半光鎳
特點(diǎn)：防腐性能高，鍍層填平度高，柔軟性良好，操作維護(hù)容易控制。
重點(diǎn)管控：原料必須經(jīng)過過濾后添加，鎳含量的高低影響到鍍層的厚薄，硼酸含量低有針孔.鍍層脆。含量高易陽極鈍化。PH過低容易起白跡。
10、鍍光鎳
特點(diǎn)：在寬廣的電流密度范圍內(nèi)，可獲得光亮及填平度均勻的鎳鍍層，鍍層柔軟潔白，低電位覆蓋能力平均，光亮度及填平鍍及佳，電鍍分解物低，鍍液使用壽命長(zhǎng)。
重點(diǎn)管控：原料必須經(jīng)過過濾后添加，鎳含量的高低影響到鍍層的厚薄，硼酸含量低有針孔.鍍層脆。含量高易陽極鈍化。PH過低容易起白跡。
電鍍線各缸作用(特點(diǎn))及重點(diǎn)管控事項(xiàng)
1、 光鉻：
特點(diǎn)：維護(hù)簡(jiǎn)單，高覆蓋能力及分散能力，可在較低溫度及電流密度下操作，鍍層硬度高且高電流密度處不易發(fā)白、發(fā)灰。
重點(diǎn)管控：鉻酐含量高低決定鍍層質(zhì)量.嚴(yán)控在標(biāo)準(zhǔn)范圍.電鍍中不能斷電再鍍。
2、三價(jià)鉻：
特點(diǎn)：環(huán)保產(chǎn)品，不含六價(jià)鉻，廢水處理容易，鍍層色澤均勻，鍍液具有良好的均鍍能力和覆蓋能力。
重點(diǎn)管控：生產(chǎn)產(chǎn)品時(shí)電流不宜過高，以免產(chǎn)生顏色與色板不符，電流過底容易發(fā)黃，PH值嚴(yán)格控制在2.3-2.9范圍之內(nèi)。
3、珍珠鎳：
特點(diǎn)：鍍層潔白柔軟和細(xì)致，硬度高，不易留下指印，操作簡(jiǎn)便、不易起黑點(diǎn)和光點(diǎn)，走位好，在寬廣的電流密度下，可獲得非常均勻的珍珠鎳鍍層。
重點(diǎn)管控：原料必須經(jīng)過過濾后添加，鎳含量的高低影響到鍍層的厚薄，硼酸含量低有針孔.鍍層脆。含量高易陽極鈍化。PH過低容易起白跡。
4、 黑槍：
特點(diǎn)：鍍液穩(wěn)定性高，鍍層色澤均勻，防腐能力及耐磨性高，不易褪色，覆蓋能力好。
5、 無鎳槍：
特點(diǎn)：鍍層具有高雅而美麗的獨(dú)特黑色，鍍液穩(wěn)定性高，鍍層色澤均勻，防腐能力及耐磨性高，不易褪色，沒有鎳的過敏副作用，覆蓋能力好。
四、電鍍不良及其改善措施
1、發(fā)黃
原因分析一：鍍鎳過程中電流過大將產(chǎn)品表面燒焦。
對(duì)策：調(diào)小電鍍電流。
原因分析二：因掛具反扣松動(dòng)，鍍鎳過程中掛具機(jī)械性搖晃震動(dòng)，掛具與橫梁之間接觸不緊密造成電阻大電流過小，導(dǎo)致鍍層太薄，露銅層底色。
對(duì)策：對(duì)反扣松動(dòng)損壞的掛具進(jìn)行修理或報(bào)廢處理。
2、鍍層發(fā)亮
原因分析一：酸銅缸、鎳缸的電鍍時(shí)間過長(zhǎng)，造成膜厚偏厚發(fā)亮。
對(duì)策：降低走缸時(shí)間或增加走空缸，控制電鍍時(shí)間。
原因分析二、光劑量過大
原因分析三：粗化腐蝕過度造成產(chǎn)品表面粗糙，微孔過大，后續(xù)的填補(bǔ)作用不到位造成表面粗糙發(fā)霧發(fā)麻。
對(duì)策：減少粗化處理時(shí)間
對(duì)策：電解片電解消耗光劑或加活性碳進(jìn)行清缸處理，重新調(diào)節(jié)光劑含量。
3、鍍層發(fā)霧
原因分析：酸銅缸電鍍時(shí)間過短，銅層表面不夠光滑細(xì)膩，造成后續(xù)發(fā)霧。
對(duì)策：調(diào)整酸銅電鍍缸的電鍍時(shí)間。
4、麻點(diǎn)
原因分析一：素材本身問題，材質(zhì)不合格；加入色粉混合不均勻。
對(duì)策：注塑改善
原因分析二：解膠不徹底導(dǎo)致化學(xué)沉鎳不均勻，造成后續(xù)化學(xué)鍍層不均勻發(fā)霧。
增加解膠時(shí)間，提供更多的沉鎳機(jī)會(huì)。
原因分析三：缸液雜質(zhì)多，使用周期長(zhǎng)
對(duì)策：組織清缸處理
原因分析四：起缸后產(chǎn)品表面附帶的缸液沒有清洗干凈，走空缸時(shí)間長(zhǎng)，缸液在產(chǎn)品表面留下痕跡造成麻點(diǎn)臟污。
對(duì)策：增加清洗時(shí)間和強(qiáng)度，或手提產(chǎn)品減少走空缸時(shí)間，盡快進(jìn)入下一步電鍍缸。
5、附著力不夠百格不通過鍍層易脫落
原因分析一：注塑成型過程中素材受壓后內(nèi)應(yīng)力未消除，電鍍后素材內(nèi)應(yīng)力釋放體積變大造成鍍層發(fā)裂易脫落。
對(duì)策：對(duì)素材進(jìn)行內(nèi)應(yīng)力測(cè)試，內(nèi)應(yīng)力未消除的進(jìn)行60+/-5℃溫度下3小時(shí)烘烤，釋放素材內(nèi)應(yīng)力。
原因分析二：素材前處理時(shí)粗化不不到位，產(chǎn)品表面光滑微孔結(jié)構(gòu)不夠造成附著力不夠。 對(duì)策：增加粗化時(shí)間
原因分析三：沉鈀敏化不到位，塑料表面分子活化不到位，造成化學(xué)鎳不能吸附到塑料表面。 對(duì)策：檢查敏化溶液濃度，調(diào)整到適當(dāng)濃度或增加溫度和敏化時(shí)間。
原因分析四：解膠不徹底造成化學(xué)鎳層沉積不到位，不均勻，不能形成足夠、均勻“晶胞”，塑料表面不能提供沉鎳場(chǎng)所。后續(xù)鍍層不致密，易脫落。
對(duì)策：檢查解膠溶液濃度和溫度，調(diào)整到規(guī)格范圍內(nèi)，或適當(dāng)延長(zhǎng)解膠時(shí)間。
6、 漏鍍不良
原因分析一：素材問題，B料分子分布不均勻， 造成死膠。
對(duì)策：進(jìn)料控制
原因分析二：粗化不到位，塑料表面沒有形成微孔結(jié)構(gòu)，后續(xù)化學(xué)鎳不能很好吸附上。 對(duì)策：檢查粗化缸溶液濃度、溫度，調(diào)整到規(guī)格內(nèi)；適當(dāng)增長(zhǎng)粗化時(shí)間。
原因分析三、沉鈀敏化不到位，塑料表面分子活化不到位，造成化學(xué)鎳不能吸附到塑料表面。 對(duì)策：檢查敏化溶液濃度，調(diào)整到適當(dāng)濃度或增加溫度和敏化時(shí)間。
原因分析四：解膠不徹底造成化學(xué)鎳層沉積不到位，不均勻，不能形成足夠、均勻“晶胞”，塑料表面不能提供沉鎳場(chǎng)所。后續(xù)鍍層不致密，漏鍍。
對(duì)策：檢查解膠溶液濃度和溫度，調(diào)整到規(guī)格范圍內(nèi)，或適當(dāng)延長(zhǎng)解膠時(shí)間。
7、 上鍍層不良
原因分析：敏化過度造成絕緣油溶解，鍍層上到絕緣油位置。另外雙色料敏化過度，PC料會(huì)上鍍層。
對(duì)策：降低前處理敏化時(shí)間。
五、總結(jié)
經(jīng)過駐廠在生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)實(shí)地學(xué)習(xí)，金源康品管幾位副理和產(chǎn)線作業(yè)人員的講解下，初步的了解塑料ABS電鍍流程、工藝、產(chǎn)線的機(jī)臺(tái)設(shè)備及不良產(chǎn)生原因、改善等我之前不懂的知識(shí)。因?qū)嵙?xí)時(shí)間有限和駐廠期間我司產(chǎn)品不多，學(xué)習(xí)了解的知識(shí)十分有限，在今后的工作中一定虛心學(xué)習(xí)，積極進(jìn)取，能為我們?nèi)f德公司電鍍進(jìn)料質(zhì)量管控盡一份力。
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