材料分析測試方法名詞解釋

　　名詞解釋，即對專業(yè)名詞的解釋。簡單來說，就是解釋一個(gè)詞語。名詞是一個(gè)詞語，意思是表示人或事物以及時(shí)間、方位等的詞。以下是小編整理的材料分析測試方法名詞解釋，希望對大家有所幫助。

　　材料分析測試方法名詞解釋1

　　1、連續(xù)X射線譜：由波長連續(xù)變化的X射線構(gòu)成，也稱白色的X 射線或多色的X射線。

　　2、短波限：連續(xù)X射線譜在短波方向的最短波長，即光子一次碰撞就耗盡能量所產(chǎn)生的X光子的波長，稱為短波限λ0。

　　3、吸收限：指X射線通過物質(zhì)時(shí)光子的能量大于或等于使物質(zhì)原子激發(fā)的能量，如入射光子的能量必須大于或等于將K電子從無窮遠(yuǎn)移至K層時(shí)所做的功W，稱此時(shí)的光子波長λ為K系的吸收限。

　　4、X射線強(qiáng)度：垂直X射線傳播方向的單位面積上在單位時(shí)間內(nèi)所通過的光子數(shù)目的能量總和。

　　5、特征X射線譜：由一定波長的若干X射線疊加在連續(xù)譜上構(gòu)成，也稱單色的X射線和標(biāo)識X射線。

　　6、特征X射線：原子內(nèi)層電子受到激發(fā)后，在能級躍遷過程中直接釋放的具有特征能量和波長的一種電磁波。

　　7、光電效應(yīng)：光與物質(zhì)相互作用產(chǎn)生電子的現(xiàn)象。X射線與物質(zhì)的相互作用可以看成是X光子與物質(zhì)中原子的相互碰撞。當(dāng)X光子具有足夠能量時(shí)，可以將原子內(nèi)層電子擊出，該電子稱為光電子。原子處于激發(fā)態(tài)，外層電子向內(nèi)層空位躍遷，多余能量以輻射方式釋放，即二次特征X射線或熒光X射線。這一過程即為X射線的光電效應(yīng)。

　　8、倒易點(diǎn)陣：在晶體點(diǎn)陣（正點(diǎn)陣）基礎(chǔ)上按一定對應(yīng)關(guān)系構(gòu)建的一個(gè)空間點(diǎn)陣。方向—倒易基矢垂直于正點(diǎn)陣中異名基矢構(gòu)成的平面長度—倒易基矢與正點(diǎn)陣矢量間是倒數(shù)關(guān)系

　　9、倒易矢量：由倒易原點(diǎn)指向任意倒易陣點(diǎn)的方向矢量。

　　10、布拉格方程：d-衍射晶面間距；θ-掠射角；λ-入射線波長；n-反射級數(shù)

　　11、反射球：以波矢量大小的倒數(shù)（1/λ）為半徑,作一個(gè)球面,從球心向球面與倒易點(diǎn)陣的交點(diǎn)的射線為波的衍射線,這個(gè)球面稱為反射球，也稱厄瓦爾德球。

　　12、倒易球：多晶體由很多小晶粒（亞晶粒）構(gòu)成，這些晶粒在空間的取向各不相同。這些取向不同的晶粒中同名的（HKL）晶面對應(yīng)的倒易矢量的長度都為1/dHKL，對應(yīng)的倒易點(diǎn)在空間構(gòu)成一個(gè)半徑為1/dHKL的球，即倒易球。

　　13、勞厄法：用連續(xù)X射線照射單晶體的衍射方法。

　　14、周轉(zhuǎn)晶體法：用單色的X射線照射轉(zhuǎn)動(dòng)的單晶體的衍射方法。

　　15、粉末衍射法（多晶法）：用單色的X射線照射粉末多晶體的衍射方法。

　　16、f ：原子散射因子。

　　17、F：以一個(gè)散射波振幅為單位的晶胞散射波合成振幅。

　　18、系統(tǒng)消光：由于|F|2=0引起的衍射線消失的現(xiàn)象稱為系統(tǒng)消光。分為兩類：點(diǎn)陣消光和結(jié)構(gòu)消光。

　　19、點(diǎn)陣消光：只決定于晶胞中原子位置的消光現(xiàn)象。

　　20、結(jié)構(gòu)消光：在點(diǎn)陣消光的基礎(chǔ)上因結(jié)構(gòu)基元內(nèi)原子位置不同而產(chǎn)生的附加消光（如金剛石結(jié)構(gòu)）。

　　21、|G|2稱為干涉函數(shù)，又稱形狀因子。

　　22、晶帶：在晶體結(jié)構(gòu)或空間點(diǎn)陣中， 與某一取向平行的所有晶面均屬于同一個(gè)晶帶。

　　23、聚焦圓：X射線衍射儀法中，樣、光源和光闌必須位于同一圓周上才能獲得足夠高的衍射強(qiáng)度和分辨率。此圓周稱為聚焦圓。

　　24、輻射探測器：接收樣品發(fā)射的X射線（X光子），并將光子信號轉(zhuǎn)變?yōu)殡娒}沖信號（瞬時(shí)脈沖）的裝置。

　　25、閃爍計(jì)數(shù)器：利用X射線作用在某些物質(zhì)（磷光體）上產(chǎn)生可見熒光，并通過光電倍增管來接收的探測器。

　　26、物相分析：確定物質(zhì)的相組成和各組成相的相對含量，前者稱物相定性分析，后者稱物相定量分析。

　　27、透射電子顯微鏡（TEM）：以波長很短的電子束作為照明源，用電磁透鏡成像的一種具有高分辨本領(lǐng)、高放大倍數(shù)的電子光學(xué)儀器。

　　28、分辨率：把兩個(gè)Airy斑中心距離等于Airy斑半徑時(shí)物平面上相應(yīng)兩個(gè)物點(diǎn)間的距離定義為透鏡能分辨的最小間距，即透鏡分辨率。

　　29、球差：由于電磁透鏡近軸區(qū)域和遠(yuǎn)軸區(qū)域磁場對電子折射能力不同而產(chǎn)生的一種像差。

　　30、像散：由于透鏡磁場的非旋轉(zhuǎn)對稱引起的像差。

　　31、色差：由于成像電子的能量不同或變化，從而在透鏡磁場中運(yùn)動(dòng)軌跡不同，不能在一點(diǎn)聚焦而形成的像差。

　　32、景深：成像時(shí)，像平面不動(dòng)（像距不變），在滿足成像清晰的前提下，物平面沿軸線前后可移動(dòng)的距離。

　　33、焦長：成像時(shí)物點(diǎn)固定不動(dòng)（物距不變），在滿足成像清晰的前提下，像平面沿軸線前后可移動(dòng)的.距離。

　　34、消像散器：對電磁透鏡磁場橢圓度進(jìn)行補(bǔ)償矯正的儀器。

　　35、高階勞厄斑點(diǎn)：高階勞厄區(qū)倒易桿與反射球相交形成的斑點(diǎn)。過倒易原點(diǎn)的倒易面——零層倒易面，也叫作零階勞厄區(qū)。

　　36、超點(diǎn)陣斑點(diǎn)：當(dāng)晶體內(nèi)部的原子或離子發(fā)生有規(guī)律的位移或不同種原子產(chǎn)生有序排列時(shí)，使得原來消光的斑點(diǎn)重新出現(xiàn)，這種額外的斑點(diǎn)稱為超點(diǎn)陣斑點(diǎn)。

　　37、二次衍射斑點(diǎn)：電子受原子散射作用強(qiáng)，致使衍射束強(qiáng)度可與透射束強(qiáng)度相當(dāng)，一次衍射束作為新的入射束產(chǎn)生“二次衍射”。 “二次衍射”使得一些|FHKL|=0的消光又出現(xiàn)強(qiáng)度，這種斑點(diǎn)稱為“二次衍射斑點(diǎn)”。

　　38、菊池花樣：當(dāng)電子束穿透較厚單晶樣品時(shí)，除了衍射斑點(diǎn)外還會出現(xiàn)一些平行的亮暗線對，此即為菊池花樣或菊池線——是非彈性散射的電子又被彈性散射的結(jié)果。

　　39、電子顯微圖像：物鏡背焦面上各衍射斑點(diǎn)的球面波在物鏡像平面上干涉所成圖像，具有黑白襯度，且與樣品的微觀組織相對應(yīng)。

　　40、像襯度：圖像上不同區(qū)域間明暗程度的差別。是在物鏡背焦面上通過物鏡光闌選擇透射斑或衍射斑成像的結(jié)果。

　　41、質(zhì)厚襯度：由于樣品上不同微區(qū)質(zhì)量（原子序數(shù)Z）或厚度差異而形成的襯度，是解釋非晶體樣品電子顯微圖像襯度的理論依據(jù)。

　　42、非彈性散射：入射電子與核外電子相互作用，除了方向的改變還有能量的變化。

　　43、衍襯襯度：由于晶體樣品中各處衍射束強(qiáng)度差異而形成的襯度。對于沒有成分差異的單相材料，衍襯襯度是由樣品各處滿足布拉格條件程度的差異造成的。

　　44、中心暗場成像：將入射束反向傾斜一個(gè)相應(yīng)角度，使散射電子沿光軸傳播。

　　45、雙光束條件：對于晶體樣品，在明場像條件下只有(HKL)面滿足衍射條件（衍射強(qiáng)度IHKL），其余晶面均與衍射條件存在較大偏差（衍射強(qiáng)度視為零），此時(shí)除直射束外只有一個(gè)強(qiáng)衍射束即(HKL)衍射束，構(gòu)成“雙光束條件”。

　　46、相位襯度：由于入射電子束相位改變而引起的襯度。

　　47、消光距離：強(qiáng)烈的動(dòng)力學(xué)相互作用的結(jié)果，使得I0和Ig在晶體深度方向上發(fā)生周期性的振蕩。振蕩的深度周期即為“消光距離”——ξg

　　48、掃描電子顯微鏡：繼透射電子顯微鏡后發(fā)展起來的一種電子顯微鏡。用細(xì)聚焦的電子束轟擊樣品表面，通過對電子與樣品相互作用產(chǎn)生的各種信息進(jìn)行收集、處理，從而獲得微觀形貌放大像。

　　49、背散射電子：被固體樣品中的原子核反彈回來的一部分入射電子，包括彈性背散射電子和非彈性背散射電子。

　　50、二次電子：被入射電子轟擊出來的核外電子，通常為外層電子。

　　51、吸收電子：經(jīng)樣品多次非彈性散射，能量損失殆盡，最后被樣品吸收的那部分入射電子。

　　52、透射電子：當(dāng)樣品厚度小于電子有效穿透深度時(shí)，穿過樣品而出的那些入射電子。

　　53、俄歇電子：原子內(nèi)層電子受到激發(fā)后，在能級躍遷過程中釋放出來的能量ΔE使得核外另一個(gè)電子電離并逸出樣品表面，稱為俄歇電子。

　　54、表面形貌襯度：由于試樣表面形貌差別而形成的襯度。

　　55、原子序數(shù)襯度：由于樣品表面物質(zhì)原子序數(shù)或化學(xué)成分差異而形成的襯度。

　　56、電子探針X射線顯微分析：EPMA是一種顯微分析和成分分析相結(jié)合的微區(qū)分析，特別適用于分析樣品中微小區(qū)域的化學(xué)成分。

　　57、分光晶體：用來對X射線起色散作用的晶體。

　　58、定點(diǎn)定性分析：對試樣某一選定點(diǎn)（區(qū)域）進(jìn)行定性成分分，以確定該點(diǎn)區(qū)域內(nèi)存在的元素。

　　59、線掃描分析：使聚焦電子束在樣品觀察區(qū)內(nèi)沿一選定直線（穿越粒子或界面）進(jìn)行慢掃描，X射線譜儀處于探測某一元素特征X射線狀態(tài)。

　　60、XPS：利用特征X-ray激發(fā)樣品光電效應(yīng)產(chǎn)生光電子，收集檢測光電子能量來確定樣品元素組成和狀態(tài)。

　　61、化學(xué)位移：同種原子處于不同化學(xué)環(huán)境而引起的電子結(jié)合能變化在譜線上造成的位移。

　　62、物理位移：由于固體的熱效應(yīng)與電荷電效應(yīng)等物理因素引起電子結(jié)合能改變，從而導(dǎo)致光電子譜峰位移，即物理位移。

　　材料分析測試方法名詞解釋2

　　1、化學(xué)分析：化學(xué)分析又稱經(jīng)典分析，包括滴定分析和重量分析兩部分，是根據(jù)樣品的量、反應(yīng)產(chǎn)物的量或所消耗試劑的量及反應(yīng)的化學(xué)計(jì)量關(guān)系，經(jīng)計(jì)算得待測組分的含量�；瘜W(xué)分析是鑒別材料中附加成分的種類、含量，是剖析材料組成、準(zhǔn)確定量的`必要手段。

　　2、差熱分析：熱分析是研究熱力學(xué)參數(shù)或物理參數(shù)與溫度變化關(guān)系分析的方法，可分性材料晶型轉(zhuǎn)變、熔融、吸附、脫水、分解等物理性質(zhì)，在物理、化學(xué)、化工、冶金、地質(zhì)、建材、燃料、輕紡、食品、生物等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。通過熱分析技術(shù)的綜合應(yīng)用可以判斷材料種類、材料組分含量、篩選目標(biāo)材料、對材料加工條件、 使用條件做出準(zhǔn)確的預(yù)判，是材料分析過程中非常重要的組成部分。

　　3、元素分析：元素分析是研究被測元素原子的中外層電子由基態(tài)向激發(fā)態(tài)躍遷時(shí)吸收或者放出的特征譜線的一種分析手段，通過特征譜線的分析可了解待測材料的元素組成、化學(xué)鍵、原子含量及相對濃度。元素分析針對材料中非常規(guī)組分進(jìn)行前期元素分析，輔助和佐證色譜分析，是材料分析中必不可少的環(huán)節(jié)。

　　4、光譜分析：光譜分析是通過對材料的發(fā)射光譜、吸收光譜、熒光光譜等特征光譜進(jìn)行研究以分析物質(zhì)結(jié)構(gòu)特征或含量的方法，光譜分析根據(jù)光的波長分為可見、紅外、紫外、X射線光譜分析。利用光譜分析可以精確、迅速、靈敏的鑒別材料、分析材料分子結(jié)構(gòu)、確定化學(xué)組成和相對含量。是材料分析過程中對材料進(jìn)行定性分析首要步驟。

　　5、色譜分析：是材料不同組分分子在固定相和流動(dòng)相之間分配平衡的過程中，不同組分在固定相上相互分離，已達(dá)到對材料定性分析、定量的目的。根據(jù)分離機(jī)制，色譜分析可以分為吸附色譜、分配色譜、離子交換色譜、凝膠色譜、親和色譜等分析類別，通過各種色譜技術(shù)的綜合運(yùn)用，可實(shí)現(xiàn)各種材料的組分分離、定量、定性分析。

　　6、聯(lián)用（接口）技術(shù)：通過不同模式和類型的熱分析技術(shù)與色譜、光譜、質(zhì)譜聯(lián)用（接口）技術(shù)實(shí)現(xiàn)對多組分復(fù)雜樣品體系的分析，可完成組分多樣性、體系多樣性的材料精確、靈敏、快捷的組分、組成測試，是非常規(guī)材料剖析過程中不可或缺分析方法。

　　材料分析測試方法名詞解釋3

　　1、晶體：原子按一定方式在三維空間內(nèi)周期性地規(guī)則重復(fù)排列，有固定熔點(diǎn)、各向異性。

　　2、中間相：兩組元A 和B 組成合金時(shí)，除了形成以A 為基或以B 為基的固溶體外，還可能形成晶體結(jié)構(gòu)與A，B 兩組元均不相同的新相。由于它們在二元相圖上的位置總是位于中間，故通常把這些相稱為中間相。

　　3、亞穩(wěn)相：亞穩(wěn)相指的是熱力學(xué)上不能穩(wěn)定存在，但在快速冷卻成加熱過程中，由于熱力學(xué)能壘或動(dòng)力學(xué)的因素造成其未能轉(zhuǎn)變?yōu)榉�(wěn)定相而暫時(shí)穩(wěn)定存在的一種相。

　　4、配位數(shù)：晶體結(jié)構(gòu)中任一原子周圍最近鄰且等距離的原子數(shù)。

　　5、再結(jié)晶：冷變形后的金屬加熱到一定溫度之后，在原變形組織中重新產(chǎn)生了無畸變的新晶粒，而性能也發(fā)生了明顯的變化并恢復(fù)到變形前的狀態(tài)，這個(gè)過程稱為再結(jié)晶。

　　6、偽共晶：非平衡凝固條件下，某些亞共晶或過共晶成分的`合金也能得到全部的共晶組織，這種由非共晶成分的合金得到的共晶組織稱為偽共晶。

　　7、交滑移：當(dāng)某一螺型位錯(cuò)在原滑移面上運(yùn)動(dòng)受阻時(shí)，有可能從原滑移面轉(zhuǎn)移到與之相交的另一滑移面上去繼續(xù)滑移，這一過程稱為交滑移。

　　8、過時(shí)效：鋁合金經(jīng)固溶處理后，在加熱保溫過程中將先后析出GP 區(qū)，θ ”，θ ’，和θ。在開始保溫階段，隨保溫時(shí)間延長，硬度強(qiáng)度上升，當(dāng)保溫時(shí)間過長，將析出θ ’，這時(shí)材料的硬度強(qiáng)度將下降，這種現(xiàn)象稱為過時(shí)效。

　　9、形變強(qiáng)化：金屬經(jīng)冷塑性變形后，其強(qiáng)度和硬度上升，塑性和韌性下降，這種現(xiàn)象稱為形變強(qiáng)化。

　　10、固溶強(qiáng)化：由于合金元素（雜質(zhì)）的加入，導(dǎo)致的以金屬為基體的合金的強(qiáng)度得到加強(qiáng)的現(xiàn)象。

　　11、彌散強(qiáng)化：許多材料由兩相或多相構(gòu)成，如果其中一相為細(xì)小的顆粒并彌散分布在材料內(nèi)，則這種材料的強(qiáng)度往往會增加，稱為彌散強(qiáng)化。

　　12、不全位錯(cuò)：柏氏矢量不等于點(diǎn)陣矢量整數(shù)倍的位錯(cuò)稱為不全位錯(cuò)。

　　13、擴(kuò)展位錯(cuò)：通常指一個(gè)全位錯(cuò)分解為兩個(gè)不全位錯(cuò)，中間夾著一個(gè)堆垛層錯(cuò)的整個(gè)位錯(cuò)形態(tài)。

　　14、螺型位錯(cuò)：位錯(cuò)線附近的原子按螺旋形排列的位錯(cuò)稱為螺型位錯(cuò)。

　　15、包晶轉(zhuǎn)變：在二元相圖中，包晶轉(zhuǎn)變就是已結(jié)晶的固相與剩余液相反應(yīng)形成另一固相的恒溫轉(zhuǎn)變。

　　16、共晶轉(zhuǎn)變：由一個(gè)液相生成兩個(gè)不同固相的轉(zhuǎn)變。

　　17、共析轉(zhuǎn)變：由一種固相分解得到其他兩個(gè)不同固相的轉(zhuǎn)變。

　　18、上坡擴(kuò)散：溶質(zhì)原子從低濃度向高濃度處擴(kuò)散的過程稱為上坡擴(kuò)散。表明擴(kuò)散的驅(qū)動(dòng)力是化學(xué)位梯度而非濃度梯度。

　　19、間隙擴(kuò)散：這是原子擴(kuò)散的一種機(jī)制，對于間隙原子來說，由于其尺寸較小，處于晶格間隙中，在擴(kuò)散時(shí)，間隙原子從一個(gè)間隙位置跳到相鄰的另一個(gè)間隙位置，形成原子的移動(dòng)。

　　20、成分過冷：界面前沿液體中的實(shí)際溫度低于由溶質(zhì)分布所決定的凝固溫度時(shí)產(chǎn)生的過冷。

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